打破日本壟斷 三星與南韓廠商合作開發成功EUV光刻膠

EUV光刻工藝除了需要EUV光刻機之外，也需要配套的EUV光刻膠，目前這一市場也主要被日本廠商壟斷，現在三星與南韓半導體廠商東進合作開發成功EUV光刻膠，已經通過驗證。

東進半導體19日宣布，近期通過了三星電子的EUV PR（光刻膠）可靠性測試。

消息人士稱，東進半導體在其位于京畿道華城的工廠開發了EUV PR，并在三星電子華城EUV生産線上對其進行了測試，并已認證可靠性測試。

PR，也稱為光刻膠，是半導體曝光工藝中的關鍵材料。

它應用于晶片上，當用半導體曝光裝置照射光時，會發生化學反應并改變實體性質，通過用顯影劑沖洗掉PR來繪制微電路，隻留下必要的部分。

2019年，日本與南韓爆發争議之後曾經限制三種重要的半導體材料對南韓的出口，EUV光刻膠就是其中之一，為此南韓公司也加快了EUV光刻膠的研發。

雖然已經通過了測試，不過三星是否會在EUV生産線上立即使用東進半導體的EUV光刻膠還不确定，三星及東進拒絕表态。