Lightmass
![](https://img.laitimes.com/img/__Qf2AjLwojIjJCLyojI0JCLiAzNfRHLGZkRGZkRfJ3bs92YsYTMfVmepNHL6FFRPdXTE1keJpHW4Z0MMBjVtJWd0ckW65UbM5WOHJWa5kHT20ESjBjUIF2X0hXZ0xCMx81dvRWYoNHLrdEZwZ1Rh5WNXp1bwNjW1ZUba9VZwlHdssmch1mclRXY39CXldWYtlWPzNXZj9mcw1ycz9WL49zZuBnL2ITM0AzN0MTM3EjMwAjMwIzLc52YucWbp5GZzNmLn9Gbi1yZtl2Lc9CX6MHc0RHaiojIsJye.png)
Lightmap為HDR,存有燈光方向資訊。UE4使用Lightmass對光照進行預計算,以節省動态光照計算的成本。Stationary light build完燈光後還有Shadowmap,如果有Stationary天光會有sky occlusion map(Bent normal資訊)。材質,物體,燈光,後期都可以控制Lightmass。
-
Static Lighting Level
Scale(靜态光源等級縮放):**這可用于确定在照明中計算多少細節,較小的比例将大大增加建構時間和細節。增加細節。
UE4 Lightmass的設定Lightmass -
**Indirect Lighting
Quality(間接照明品質):**設定越高,會導緻建構時間大量增加,但解算器穿幫(噪點、斑點)變少。減少噪點
在經驗上,我們為了建構時間和最後品質做權衡,我們讓他們有一個固定的關系
- Num Indirect/Sky Lighting Bounces:影響場景中中的亮度
-
Indirect Lighting
Smoothness(間接照明平滑度):**影響場景中中的亮度
UE4 Lightmass的設定Lightmass - Evironment color/Environment intensity
-
** Diffuse Boost(漫反射增強):**加 Diffuse Boost
的值是增加場景中間接光照亮度的有效方式
-
**Use Ambient
Occlusion(使用環境遮擋):**使靜态環境遮擋可以通過全局光照計算并内置到您的光照圖中。
-
**Direct Illumination Occlusion
Fraction(直接照明遮擋率):**多少AO應用于直接照明
-
**Indirect Illumination Occlusion
Fraction(間接照明遮擋率):**多少AO應用于間接照
- **Occlusion Exponent(遮擋指數):**指數越高,對比度越高
-
**Fully Occluded Samples
Fraction(完全遮擋樣本比例):**為了達到完全遮擋,必須遮擋的樣本的比例。
-
**Max Occlusion
Distance(最大遮擋距離):**一個對象對另一個對象造成遮擋的最大距離。
-
**Visualize Material
Diffuse(可視化材質漫反射):**僅用導出到全局光照的材質漫反射覆寫法線直接和間接照明。這在驗證導出的材質漫反射與實際漫反射比對時非常有用。
-
**Visualize Ambient
Occlusion(可視化環境遮擋):**僅用AO項覆寫法線直接和間接照明。這在調整環境遮擋設定時很有用,因為它隔離了遮擋項。
-
**Indirect Illumination Occlusion
Fraction(間接照明遮擋率):**多少AO應用于間接照明
- **Compress Lightmaps(壓縮):**是否壓縮lightmap
光源設定燈光
- Indirect Lighting Saturation(間接照明飽和度)
-
**Shadow
Exponent(陰影指數)**控制陰影半影的衰減,或區域從完全光照到完全陰影的變化速度
UE4 Lightmass的設定Lightmass
基本材質設定
-
材質的細節(Details) 面闆下的基本節點(Base
Node)的材質(Material)中進行調整的全局光照(Lightmass)設定。
- Cast Shadow as Masked,
- Diffuse Boost
- Export Resolution Scale
Lightmass portal
Lightmass portal提高lightmap的品質
UE4 Light Scenarios
Light Scenarios提供靜态光變化的可能性
光照貼圖需要注意以下問題:
- 不要有重疊的部分
- 不要超過0~1的UV空間
- Flag-Mapping并不是最好的方式且經常導緻光照貼圖錯誤
- 盡量占滿UV空間
- 如果模型很大而且複雜,最後分成數個物體,這樣也能有助于裁剪等機制
- 盡量減小光照貼圖分辨率以減少貼圖尺寸
- 互相不接觸的線之間要保持至少2像素的距離,以防止光照污染
展UV的時候注意Min Lightmap resolution,
定義了UV塊之間的距離。這個值要小于等于lightmap
resolution,否則會出現lightmap像素無法比對而溢出的問題。