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不久前，網絡上流傳着一則消息，關于華為擁有紫外光刻技術專利的消息。這一消息引起了廣泛的關注，同時也導緻了荷蘭ASML公司股價的一路下跌。這一事件再次凸顯了一個事實：老美原本以為通過封鎖和打壓，可以限制中國在晶片半導體領域的發展，但結果卻出乎意料。
中國每年進口數千億美元的晶片和半導體裝置，然而，出于自身利益考慮，老美卻一刀切斷了全球晶片半導體供應鍊，将整個行業的發展置于其掌控之下。這種做法使得ASML等公司意識到中國市場的重要性，不得不在中美之間謹慎行事。
ASML曾以為可以通過不向中國市場出售EUV光刻機來控制中芯的發展，然而，該公司首席執行官卻直言：中國将在未來3到5年内掌握光刻機技術，目前老美對中國的封鎖和打壓都注定是徒勞的。
ASML雖然是全球唯一一家生産EUV光刻機的公司，但其技術和資本支援都依賴于美國。EUV光刻機的制造涉及數十萬個零部件，而其研發是由英特爾上司的組織完成的，曆時6年。ASML在老美的技術支援下取得了突破，但也不得不接受美國制定的技術保護條款和其他規則。
雖然ASML近年來不斷擴大産能，計劃在2025年之前傳遞90台EUV光刻機，但随着摩爾定律接近極限，EUV光刻機技術的發展已經見頂。成本不斷增加，一台EUV光刻機現在需要1.2億美元，3納米晶圓的成本也已達到2萬美元。是以，許多新技術開始出現，試圖取代ASML的EUV光刻機，包括華為的光電晶片和量子晶片，以及日本的NIL納米技術。
曾經的光刻機巨頭佳能也與铠俠聯合研發，推出了代替ASML EUV光刻機技術的納米壓印技術。铠俠已經在2017年開始測試納米壓印技術，目前已支援15納米工藝，預計在2025年将推出與ASML EUV光刻機競争的裝置。
此外，美國企業也在不斷研發新技術。在2022年10月，美國公司釋出了全球最高分辨率的光刻系統，可制造出0.768納米的晶片。盡管該技術還存在一些缺陷，隻适用于小批量的量子晶片生産，但這标志着技術競争的加劇。
越來越多的國家和企業都在尋求繞過ASML的EUV光刻機，因為他們認識到依賴ASML可能帶來風險。外媒開始反思EUV光刻機是否真的如此重要。随着老美不斷加強對中芯的封鎖，如果ASML不改變政策，中國有可能在不久的将來脫離對ASML的依賴，将其競争對手轉化為合作夥伴。
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