2025年，中国芯片自给率将达到70%！
大陆是全球最大的芯片市场，市场规模几万亿人民币，约占全球市场的三分之一。不过，国产芯片的自给率一直徘徊在30%左右。
根据有关方面公布的规划，2025年，大陆芯片自给率将达到70%，这意味着，国产芯片厂商将迎来上万亿的国产替代市场。
在芯片生产环节中，光刻胶是光刻环节关键耗材，其质量和性能与电子器件良品率、器件性能可靠性直接相关。
从技术进度的角度看，光刻胶是最有可能率先实现国产替代的细分领域，彤程新材、南大光电、华懋科技、上海新阳等企业都逐步实现了技术突破。
其中，彤程新材在最先进的ArF光刻胶方面已经开始规模量产。
下面我们将用经典的行业分析模型—波特五力来对光刻胶行业和彤程新材来进行分析。
替代品的替代能力
光刻胶，本质是一种化工材料，主要由感光树脂、增感剂和溶剂组成，在芯片耗材中占比6%左右。
光刻胶的替代品暂时没有，但芯片性能的提高在不断推动光刻胶技术的演进。
根据曝光波长的不同，目前市场上应用较多的光刻胶可分为G线、I线、KrF、ArF和EUV5种类型，光刻胶波长越短，加工分辨率越高，为适应集成电路线宽不断缩小的要求，光刻胶波长也在不断缩短。
g/i线光刻胶主流制程工艺在制程0.35-0.5μm，对应波长365nm的光源。
当制程发展到0.35μm以下时，g/i线光刻胶已经无法满足制程工艺的需求，于是出现了适用于248纳米波长光源的KrF光刻胶，和193纳米波长光源的ArF光刻胶，两者均是深紫外光刻胶。
EUV（极紫外光）是目前最先进的光刻胶技术，适用波长为13.5nm的紫外光，可用于7nm以下的先进制程，目前仅有ASML集团掌握EUV光刻胶所对应的光刻机技术。
行业内竞争者的竞争能力
从目前竞争情况看，全球光刻胶市场主要被JSR、东京应化、美国杜邦、信越化学、住友及富士胶片等制造商所垄断，尤其是在半导体光刻胶的高端的KrF和ArF领域，市场集中度更高。
日本企业基于政策扶持力度加大实现上下游协同发展，从而牢牢占据领先地位，在半导体光刻胶市场中占据的份额至少在60%以上。
国内方面，半导体光刻胶市场主要竞争公司比较多，但在ArF胶上均处于起步状态，EUV光刻胶尚处于理论研究阶段。
分产品看，G/I线光刻胶方面，国内北京科华、徐州博康、苏州瑞红已实现大规模量产，并已成为国内头部半导体企业，市场份额逐渐提升。
KrF光刻胶方面，北京科华和徐州博康进展较快，2023年已有多个品种实现销售；此外苏州瑞红及上海新阳也实现了量产突破。
ArF光刻胶方面，南大光电推出国内通过客户验证的第一只国产ArF光刻胶，并实现少量销售，而华懋科技、上海新阳也有相关产品进行测试导入。
彤程新材4月30日在官微宣布，部分ArF/ArFi光刻胶产品通过国内芯片厂验证，取得了规模量产订单，已开始批量供货。
随着国内厂商KrF、ArF光刻胶进入量产阶段，国内高端光刻胶将会逐步实现国产替代，相关公司的业绩也会迎来一轮释放。
潜在竞争者进入的能力
上文我们曾提到过，光刻胶其实就是一种化工材料，主要树脂为主。但这仅仅是原材料，绝不意味着只要是化工企业就能够干这个活。
光刻胶的技术壁垒主要有三个，配方技术、质量控制技术和原材料技术。
首先，配方技术是光刻胶功能的基石。它如同光刻胶的“灵魂”，决定了光刻胶在特定应用场景下的表现。只有掌握了先进的配方技术，才能确保光刻胶在微电子制造等高精度领域发挥出其应有的效果。
其次，质量控制技术则是光刻胶性能稳定的守护者。通过对生产过程中的各个环节进行严格的监控和调整，确保每一批次的光刻胶都能达到预设的性能指标，从而为客户提供稳定可靠的产品。
再者，原材料技术的优劣直接决定了光刻胶的质量。优质的原材料不仅能够提升光刻胶的性能，还能延长其使用寿命，降低生产成本。因此，对原材料技术的深入研究和掌握，是光刻胶技术发展的重要保障。
光刻胶的生产工艺复杂且技术壁垒高，需要企业具备长期的技术积累、高素质的研发人员、丰富的行业经验和与客户良好的沟通能力。这些因素共同构成了新进企业短期内难以逾越的障碍。
光刻胶企业对上下游的议价能力
光刻胶产业链可以分为上游原材料，中游制造和下游应用三个环节。
在上游原材料环节，行业代表企业有陶氏杜邦、富士胶片、巴斯夫和强力新材、住友等公司，其中所属地在日本的企业占比为49%。
原材料不可或缺，而技术又掌握在国外厂商手中，所以议价能力较弱。
而对于下游芯片制造企业来说，国产光刻胶仍旧紧缺，国产替代空间大，并且高端光刻胶已经被国内厂商攻克，所以议价能力相对较强。
从这个环节来说，彤程新材是国内最有潜力的一家。
彤程新材的优势到底在哪？
1、掌握核心原材料
彤程新材主要是生产轮胎特种材料，其核心产品就是酚醛树脂，同样是树脂的下游加工产品。
因此在树脂技术的研究上，公司本身已经拥有了深厚的积累，通过不断研发，光刻胶树脂已经自己掌握，并且上游供应链能够共用，也能大幅降低生产成本。
2、技术实力强硬
公司作为国内半导体光刻胶领先企业，G线和I线光刻胶产品已广泛应用于国内集成电路产线，KrF光刻胶产品种类超过20种，稳定供应国内中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储等制造商。
并且，公司ArF光刻胶的开发已实现量产，性能对标国际大厂。
最后总结一下，高端光刻胶的技术突破，将会带动新一轮的国产替代，随着国内芯片需求的不断增加，这部分的市场空间非常乐观。
彤程新材率先实现高端光刻胶的量产，同时又深度绑定国内知名的芯片企业，在国产替代的行业背景下将会极度收益。
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来源：飞鲸投研