如今，中国芯片产业链的快速发展是有目共睹的，作为芯片制造环节当中至关重要的半导体设备，光刻机自然也成为了中国芯片产业链发展的重点之一。最近几年，一直有关于国产光刻机技术突破的好消息传出，就在最近再次传出了关于国产光刻机的重要消息，只不过这次并非是技术方面的突破，而是产能方面的发展。
就在6月25日的时候，浙江绍兴的一家新闻网站公开了关于国产光刻机的好消息，根据目前传出的消息来看，国内一座光刻机制造工厂将会在绍兴成立，这一工厂的投资规模高达50亿元，工厂建成之后每年光刻机的产能都将达到100台。
虽然从目前传出的消息来看，这一工厂生产出来的光刻机并非是先进制程的光刻机，主要是以成熟制程为主。不过这其实也反应了如今中国光刻机产业的发展正在从技术进步转变为产能扩张，相当于是此前的技术逐渐开始落地，将真正解决中国芯片产业链缺少光刻机的尴尬问题。
值得关注的是，从这家企业公开的消息来看，其实他们的光刻机工厂除了能够自主生产光刻机之外，还能够定制和自主开发，甚至还包括了ASML、尼康、佳能等知名的光刻机品牌。从这一点来看，其实这家企业主要还是以维修和改造光刻机为主，是在国外已经有的技术基础之上重新设计和改造。
这种模式虽然对于中国光刻机的技术发展而言并没有太大的推动作用，但是却能够十分有效的解决美西方光刻机出口管制禁令生效之后，中国芯片产业链缺少足够光刻机设备购买渠道的情况。
更何况，从此前美国媒体报道的消息来看，ASML已经承认在出货的光刻机设备当中安装了远程操控后门，随时可以远程瘫痪已经出货的光刻机设备。这一表态虽然主要是针对台积电的，但是从其中的潜台词也足以看出，如果在有需要的时候，中国企业购买的光刻机也有可能变成废铁。
这家企业如果能够对已经购买的光刻机进行改造和定制化服务，那么也意味着有可能可以解决光刻机当中远程操控后门的设置。更何况，如今美国正在考虑进一步收紧光刻机出口管制范围，有可能将限制零部件以及维修服务的提供，这家企业也能够在这种光刻机改造和定制化服务当中收获更多的维修技术。
不过如果从整体局面上来看，其实这种模式对于国产光刻机技术的发展推动作用是比较有限的。一方面是受限于技术专利的限制，这家公司哪怕将ASML、尼康等厂商的光刻机技术摸清楚了，也无法自主生产光刻机，另一方面则是这种模式并没有涉及到核心技术的研发，主要还是在光刻机组装方面的技术发展为主。
自从经历了美芯禁令之后，不少中国企业都纷纷意识到掌握核心技术的重要性，开始加速中国芯的发展，投入了大量的资金和人力物力，研发芯片半导体领域的核心技术。光刻机自然也是大陆芯片突破的重要方向之一，目前不少国内企业其实都已经开始加速了光刻机的发展。
与这家企业相比，知名的中国光刻机企业上海微电子，就是在走自主研发核心技术的道路。从目前上海微电子传出的消息来看，其已经完成了90nm制程的国产光刻机研发和大规模量产。值得关注的是，如今上海微电子正在加速28nm制程光刻机的技术发展，此前曾多次传出了技术突破的好消息。
根据一些业内人士的猜测来看，上海微电子的28nm制程光刻机很有可能将在2025年开始出货。如果考虑到工厂和生产线的建设，那么大规模量产的时间可能会晚上一些。不过这也足以满足中国市场对于光刻机的主要需求了。
如今，中国市场对于光刻机等半导体设备的需求已经占据了全球需求总量的三分之一左右。如果想要加速国产光刻机的发展，除了加强核心技术的研发之外，同样也需要进一步扩大国产光刻机的产能，如果是从这个角度来看，这家名为上海图双的企业其实也是在对中国芯的发展做出贡献。
芯片是一个非常复杂的产业链，同时技术门槛和制造难度也非常之高。对于绝大多数企业而言，并没有那么大的能力可以参与到核心技术的研发当中，特别是光刻机这种堪称人类半导体领域设备技术结晶的存在。
因此虽然我们需要倡导核心技术的研发和突破，但是对于上海图双这种扩大产能规模，投资建厂的企业也应该要持有鼓励态度。
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