天天看點

【轉】分析場效應管工作區域詳解-KIA MOS管

在了解MOS管三個工作區之前,先了解一下MOS管三個工作區分别是什麼?下面講述MOS管場效應管的四個區域:

一、可變電阻區(也稱非飽和區)

二、恒流區(也稱飽和區、放大區、有源區)

三、夾斷區(也稱截止區)

四、擊穿區位

(1)可變電阻區(也稱非飽和區)

滿足Ucs》Ucs(th)(開啟電壓),uDs《UGs-Ucs(th),為圖中預夾斷軌迹左邊的區域其溝道開啟。在該區域UDs值較小,溝道電阻基本上僅受UGs控制。當uGs一定時,ip與uDs成線性關系,該區域近似為一組直線。這時場效管D、S間相當于一個受電壓UGS控制的可變電阻。

(2)恒流區(也稱飽和區、放大區、有源區)

滿足Ucs≥Ucs(h)且Ubs≥UcsUssth),為圖中預夾斷軌迹右邊、但尚未擊穿的區域,在該區域内,當uGs一定時,ib幾乎不随UDs而變化,呈恒流特性。i僅受UGs控制,這時場效應管D、S間相當于一個受電壓uGs控制的電流源。場效應管用于放大電路時,一般就工作在該區域,是以也稱為放大區。

(3)夾斷區(也稱截止區)

夾斷區(也稱截止區)滿足ucs《Ues(th)為圖中靠近橫軸的區域,其溝道被全部夾斷,稱為全夾斷,io=0,管子不工作。

(4)擊穿區位

擊穿區位于圖中右邊的區域。随着UDs的不斷增大,pn結因承受太大的反向電壓而擊穿,ip急劇增加。工作時應避免管子工作在擊穿區。

轉移特性曲線可以從輸出特性曲線。上用作圖的方法求得。例如在下圖(a)中作Ubs=6V的垂直線,将其與各條曲線的交點對應的i、Us值在ib- Uss 坐标中連成曲線,即得到轉移性曲線,如圖下(b)所示。

【轉】分析場效應管工作區域詳解-KIA MOS管

(a)輸出特性 (b)轉移特性

MOS管線性區、完全導通區的電場和電流分布

MOSFET的漏極導通特性如圖1所示,其工作特性有MOS管三個工作區:截止區、線性區和完全導通區。其中,線性區也稱恒流區、飽和區、放大區;完全導通區也稱可變電阻區。

【轉】分析場效應管工作區域詳解-KIA MOS管

MOSFET的漏極導通特性

通常MOSFET工作于開關狀态,在截止區和完全導通區之間高頻切換,由于在切換過程中要經過線性區,是以産生開關損耗。對于熱插撥、負載開關、分立LDO的調整管等這一類的應用,MOSFET較長時間或一直線上性區工作,是以工作狀态不同。

功率MOSFET在完全導通區和線性區工作時候,都可以流過大的電流。理論上,功率MOSFET是單極型器件,N溝道的功率MOSFET,隻有電子電流,沒有空穴電流,但是,這隻是針對完全導通的時候;線上性區,還是會同時存在電子和空穴二種電流,如圖2、圖3和圖4分别所示,完全導通區和線性區工作時,電勢、空穴和電流線分布圖。

MOS管線上性區工作時,器件同時承受高的電壓和高的電流時,會産生下面的問題:

1、内部的電場大,注入更多的空穴。

2、有效的溝道寬度比完全導通時小。

3、改變Vth和降低擊穿電壓。

4、Vth低,電流更容易傾向于局部的集中,形成熱點;負溫度系數特性進一步惡化局部熱點。

功率MOSFET工作線上性區時,器件承受高的電壓,耗盡層高壓偏置導緻有效的體電荷減小;工作電壓越高,内部的電場越高,電離加強産生更多電子-空穴對,形成較大的空穴電流。特别是如果工藝不一緻,局部區域達到臨界電場,會産生非常強的電離和更大的空穴電流,增加寄生三極管導通的風險。

MOS管的夾斷區和飽和區的差別是什麼

栅極電壓可以産生溝道,也可以使溝道消失——夾斷;而源-漏電壓也有可能使MOSFET的溝道夾斷(局部夾斷),則溝道夾斷的電壓對應有兩個電壓。一般,産生或者夾斷溝道的栅極電壓稱為門檻值電壓VT,而使溝道夾斷的源-漏電壓往往稱為飽和電壓Vsat,因為這時的源-漏電流最大、并飽和(即與源-漏電壓無關)。

(1) 耗盡型n-MOSFET:

耗盡型MOSFET在栅極電壓為0時即存在溝道。當負栅電壓增大到使溝道夾斷(整個溝道均勻夾斷)時,這時的栅電壓就稱為夾斷電壓Vp——耗盡型MOSFET的門檻值電壓。

在VGS>Vp時,IDS=0,即為截止狀态。

在VGS<Vp時,存在溝道,IDS≠0:若VDS較低,則為線性導電狀态;若VDS= (Vp-VGS)時,則溝道在漏極端附近處夾斷(非整個溝道夾斷),漏極電流達到最大——飽和電流,這時的源-漏電壓就稱為飽和電壓。飽和電壓也就是使溝道發生局部夾斷時的源-漏電壓。在VDS≥Vsat=(Vp-VGS)即為MOSFET的飽和區。

(2)增強型n-MOSFET:

增強型MOSFET在栅極電壓為0時即不存在溝道。當正栅電壓增大到出現溝道時,這時的栅極電壓特稱為開啟電壓Vop——增強型MOSFET的門檻值電壓。

在VGS<Vop時,沒有溝道,則IDS=0,即為截止狀态。

在VGS>Vop時,存在溝道,IDS≠0:若VDS較低,則為線性導電狀态;若VDS≥ (VGS-Vop)時,則溝道在漏極端附近處夾斷(非整個溝道夾斷),漏極電流達到最大、并飽和,MOSFET即進入飽和狀态。溝道開始夾斷時的源-漏電壓即為飽和電壓Vsat= (VGS-Vop)。

(3)溝道夾斷以後的導電性:

場效應半導體是依靠多數載流子在溝道中的導電來工作的。沒有溝道(栅極電壓小于門檻值電壓時),即不導電——截止狀态。出現了溝道(栅極電壓大于門檻值電壓時),即可導電;并且在源-漏電壓增大到使得溝道在漏極端夾斷以後,其電流達到最大——飽和電流,即導電性能更好。為什麼集電區能夠很好地導電?

因為溝道夾斷區實際上就是載流子被耗盡的區域,其中存在有沿着溝道方向的電場,是以隻要有載流子到達夾斷區邊緣,就很容易被掃過夾斷區而到達漏極——輸出電流。可見,溝道夾斷區與BJT的反偏集電結的勢壘區類似,不但不起阻擋載流子的作用,而且還将有利于載流子的通過。是以,溝道夾斷以後,器件的輸出電流飽和,即達到最大。

KIA半導體MOS管具備挺大的核心競争力,是開關電源生産廠家的最好的選擇。KIA半導體 MOS管廠家主要研發、生産、經營:場效應管(MOS管)、COOL MOS(超結場效應管)、三端穩壓管、快恢複二極管;廣泛應用于逆變器、锂電池保護闆、電動車控制器、HID車燈、LED燈、無刷電機、礦機電源、工業電源、擴充卡、3D列印機等領域;可申請樣品及報價和有技術支援,有什麼問題有技術員幫忙解決問題!有需要或想了解下的可以加