近日，光谷企業在半導體專用光刻膠領域實作重大突破：武漢太紫微光電科技有限公司（以下簡稱“太紫微公司”）推出的T150 A光刻膠産品，已認證半導體工藝量産驗證，實作配方全自主設計，有望開創國内半導體光刻制造新局面。
該産品對标國際頭部企業主流KrF光刻膠系列。相較于被業内稱之為“妖膠”的國外同系列産品UV1610，T150 A在光刻工藝中表現出的極限分辨率達到120nm，且工藝寬容度更大，穩定性更高，堅膜後烘留膜率優秀，其對後道刻蝕工藝表現更為友好，通過驗證發現T150 A中密集圖形經過刻蝕，下層媒體的側壁垂直度表現優異。
太紫微公司成立于2024年5月，由華中科技大學武漢光電國家研究中心團隊創立。團隊立足于關鍵光刻膠底層技術研發，在電子化學品領域深耕二十餘載。
企業負責人、英國皇家化學會會員、華中科技大學教授朱明強表示：“以原材料的開發為起點，最終獲得具有自主知識産權的配方技術，這隻是個開始，我們團隊還會發展一系列應用于不同場景下的KrF與ArF光刻膠，為國内相關産業帶來更多驚喜。”
太紫微核心研發團隊成員（前排左一為朱明強教授）
太紫微公司緻力于半導體專用高端電子化學品材料的開發，并以新技術路線為半導體制造開辟新型先進光刻制造技術，同時為材料的分析與驗證提供最全面的手段。
“無論是從國内半導體産業崛起的背景來看，還是從摩爾定律演變的規律展望未來，‘百家争鳴’的局面已形成，光刻領域還會有很多新技術、新企業破繭成蝶，但擁有科技創新的力量是存活下去的必要前提。”太紫微外聘專家顧問表示。