芯片制造离不开光刻机，光刻机制造技术最先进的厂商是ASML，其研发制造的DUV光刻机和EUV光刻机，基本占领了中高端市场。
其中，EUV光刻机主要是生产制造7nm以下制程的芯片。
另外，ASML还在研发High NA EUV光刻机，预计2023年某个时间点交付。
虽然ASML的光刻机技术最为先进，却不能从自由出货，从2019年开始，ASML的EUV光刻机就受到了出货约束。
随后DUV光刻机出货也受到了影响，ASML表示在美生产制造的DUV光刻机，在没有许可的情况下，是不能自由出货的。
早些时候，美进一步游说ASML，希望其收紧国际主流光刻机的出货范围，实际上就是进一步约束DUV光刻机的出货范围。
ASML表示限制DUV光刻机出货，会导致全球芯片产业链中断。但有消息称，DUV光刻机出货还是被约束了。
如今，ASML正式就光刻机出货发声了，对美国要求荷兰限制半导体方面的对华出口提出质疑。
ASML CEO表示美芯片制造商能够向中国客户出售他们最先进的芯片，但阿斯麦却只能出售旧设备，这看起来是矛盾的。
言外之意就是在搞双标
要知道，芯片规则修改后，很多芯片半导体企业都不能自由出货，包含台积电、ASML这样的巨头。
但美芯企业却可以向华为等厂商出货，英特尔、英伟达、AMD等厂商，是首批获得许可的企业，随后高通等企业也可以向华为等厂商出货。
但ASML一直都没有获得EUV光刻机的出货许可，即便是DUV光刻机，如今也进一步被约束出货了。
对此就有外媒表示ASML 发出这样的质疑，称美采用双标的做法，这是开始硬刚了。
首先，中国市场是全球最大的芯片消费市场，未来一段时间内仍将是全球最大的芯片消费市场，而国内厂商也在加速实现更多芯片自研自产。
生产制造更多芯片，自然就需要用到更多的光刻机等设备。
数据显示，国内市场已经超越美国市场，成为ASML第三大市场，贡献了超过16%的营收。
要知道，国内市场成为ASML第三大市场，还是在EUV光刻机不能自由出货的情况下，可想国内市场规模有多大。
在这样的情况下，ASML自然不会放弃国内市场，更不愿意放弃国内市场。
其次，ASML也有自己的目标。
ASML已经明确对外表示，要在2025年实现300亿欧元的营收，并计划将EUV光刻机的安装使用率提升到60%以上。
这就意味着ASML必须出货更多的光刻机设备，包含EUV光刻机在内。
为了实现这一目标，ASML加速研发High NA EUV光刻机，就是想尽快推出更先进的设备，从而实现EUV光刻机自由出货。
同时，ASML还加速提升EUV光刻机等产能，在2025-2026年实现年出货60台EUV和600台DUV光刻机。
最后，ASML已经明确表示，光刻机设备中含美技术有限，新规对ASML光刻机出货的影响是有限的。
但美等施压要求ASML收紧出货范围，这是ASML不想看到的结果，ASML也表示不会大规模照搬美在10月份出台的政策，将会根据自身情况做出一些调整。
原因是国内光刻机技术发展迅速，ASML在出货方面受到的约束越多，这只会加速ASML退出国内市场，ASML CEO也承认这一点。
所以外媒才说ASML 正式就光刻机发声，这是开始硬刚了。